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【TC Wafer】【快速退火爐】RTP-SA-12半自動快速退火爐

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廣東瑞樂科技專注于高精度溫測、溫控設備的生產(chǎn)和研發(fā)定做,為半導體行業(yè)提供科學的國產(chǎn)解決方法,更多有關快速退火爐 ?TC Wafer??晶圓測溫系統(tǒng)資訊請關注瑞樂官網(wǎng)。

RTP-SA-12RTP-SA-12半自動快速退火爐是在保護氣氛下的半自動立式快速退火系統(tǒng),以紅外可見光加熱單片Wafer或樣品,工藝時間短,控溫精度高,適用4-12英寸晶片。相對于傳統(tǒng)擴散爐退火系統(tǒng)和其他RTP系統(tǒng),其獨特的腔體設計、先進的溫度控制技術和獨有的RL900軟件控制系統(tǒng),確保了極好的熱均勻性?!?/span>RTP快速退火爐

產(chǎn)品特點

PRODUCTFEATURES

紅外鹵素燈管加熱,冷卻采用風冷:

燈管功率PID控溫,可精準控制溫度升溫,保證良好的重現(xiàn)性與溫度均勻性:

采用平行氣路進氣方式,氣體的進入口設置在Wafer表面,避免退火過程中冷點產(chǎn)生,保證產(chǎn)品良好的溫度均勻性.

RTP快速退火爐.jpg

大氣與真空處理方式均可選擇,進氣前氣體凈化處理

標配兩組工藝氣體,最多可擴展至6組工藝氣體,

可測單品片樣品的最大尺寸為12英寸(300x300mm)

采用爐門安全溫度開啟保護、溫控器開啟權限保護以及設備急停安全保護三重安全措施,全方位保障儀器使用安全。

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行業(yè)應用RTP快速退火爐

INDUSTRYAPPLICATIONS

氧化物、氮化物生長

硅化物合金退火

砷化家工藝

歐姆接觸快速合金

氧化回流

其他快速熱處理工藝

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基本配置

BASICCONFIGURATION

RTP快速退火爐

廣東瑞樂科技專注于高精度溫測、溫控設備的生產(chǎn)和研發(fā)定做,為半導體行業(yè)提供科學的國產(chǎn)解決方法,更多有關快速退火爐 ?TC Wafer??晶圓測溫系統(tǒng)資訊請關注瑞樂官網(wǎng)。

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