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On-WaferWLS低溫無線晶圓測溫系統(tǒng)

On Wafer WLS 低溫無線 晶圓測溫系統(tǒng) On Wafer 無線晶圓測溫系統(tǒng)通過自主研發(fā)的核心技術(shù)將傳感器嵌入晶圓集成,實時監(jiān)控和記錄晶圓在制程過程中的...

On Wafer WLS低溫無線晶圓測溫系統(tǒng)

On ?Wafer 無線晶圓測溫系統(tǒng)通過自主研發(fā)的核心技術(shù)將傳感器嵌入晶圓集成,實時監(jiān)控和記錄晶圓在制程過程中的溫度變化數(shù)據(jù),為半導體制造過程提供一種高效可靠的方式來監(jiān)測和優(yōu)化關(guān)鍵的工藝參數(shù)。瑞樂提供核心的DUAL SHIELD技術(shù),具有強抗干擾能力,可實現(xiàn)在干法刻蝕環(huán)境中正常工作,精準監(jiān)測高低溫環(huán)境刻蝕工藝溫度場分布。

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產(chǎn)品優(yōu)勢:

1. 無線測溫采集:傳感器無需有線連接即可傳輸數(shù)據(jù),滿足晶圓在復(fù)雜性狀況下通過無線通信方式進行溫度測量。

2.?實時測溫監(jiān)測:系統(tǒng)可以提供實時溫度讀數(shù),通過測溫數(shù)據(jù)觀察晶圓在工藝過程中的溫度變化過程。

3. 滿足高精度測量:采用高精度溫度傳感器確保數(shù)據(jù)的準確性,晶圓生產(chǎn)過程中精確控制工藝條件至關(guān)重要。

4.?測溫數(shù)據(jù)分析能力:測量后的數(shù)據(jù)通過軟件分析和優(yōu)化工藝參數(shù),提高產(chǎn)量和產(chǎn)品質(zhì)量。

5. 支持過程調(diào)整與驗證:通過分析在產(chǎn)品工藝條件下收集的溫度數(shù)據(jù)實現(xiàn)調(diào)整蝕刻和其他關(guān)鍵工藝步驟的條件,以確保最佳性能。

6. 全面熱分布區(qū)監(jiān)測:在晶圓上支持最多可達81個位置同時進行溫度監(jiān)測,從而獲得全面的熱分布圖。

On Wafer WLS無線晶圓測溫系統(tǒng)

Wafer尺寸

8”、12”

測溫點數(shù)

53/81/可定制測溫點

溫度范圍

15-100

溫度精度

±0.1/±0.2

sensor to sensor

±0.1/±0.2

測溫元件

IC

晶圓材質(zhì)

硅片

厚度

1.4mm

通信方式

無線通信傳輸

充電方式

無線充電

采樣頻率

2Hz/可選

測溫軟件

無線測溫專用軟件,實時顯示溫度場剖面圖及實時升溫曲線圖

配套主機

測溫系統(tǒng)配套主機

應(yīng)用場景

光刻

刻蝕

化學氣相沉積(CVD

物理氣相沉積(PVD)

離子注入

清洗

化學機械拋光

紫外光固化

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