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【TC Wafer】離子注入晶圓溫度測(cè)量系統(tǒng)熱電偶晶圓測(cè)溫系統(tǒng)

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廣東瑞樂科技專注于高精度溫測(cè)、溫控設(shè)備的生產(chǎn)和研發(fā)定做,為半導(dǎo)體行業(yè)提供科學(xué)的國產(chǎn)解決方法,更多有關(guān)TC Wafer?晶圓測(cè)溫系統(tǒng)資訊請(qǐng)關(guān)注瑞樂官網(wǎng)

產(chǎn)品引言【TC Wafer

離子注入是一種將離子以高速注入半導(dǎo)體晶圓表面的技術(shù),以改變半導(dǎo)體材料的導(dǎo)電性能。在離子注入過程中,控制晶圓的溫度至關(guān)重要,因?yàn)闇囟葘?duì)注入效率、晶圓質(zhì)量以及*終產(chǎn)品性能產(chǎn)生重要影響。因此,離子注入晶圓溫度測(cè)量技術(shù)在半導(dǎo)體制造中具有重要作用。

離子注入的溫度控制對(duì)于確保制造過程的一致性和可重復(fù)性至關(guān)重要。溫度的精確測(cè)量和控制可以影響離子注入的深度、分布和濃度,從而影響晶圓的電學(xué)性能。如果溫度變化超出預(yù)定范圍,注入的離子可能會(huì)擴(kuò)散得不均勻,導(dǎo)致制造過程中的差異,甚至是不合格品的產(chǎn)生。

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產(chǎn)品概述

瑞樂半導(dǎo)體TC-WAFER離子注入晶圓溫度測(cè)量系統(tǒng)測(cè)量精度可以達(dá)到mk級(jí)別,同時(shí)也可以多區(qū)測(cè)量晶圓特定位置的溫度真實(shí)值,同時(shí)也可以*準(zhǔn)描述晶圓整體的溫度分布狀況,同時(shí)也可以監(jiān)測(cè)半導(dǎo)體設(shè)備控溫過程中晶圓所發(fā)生的溫度變化,認(rèn)識(shí)升溫、降溫以及恒溫過程中設(shè)備的有*性。

瑞樂半導(dǎo)體還提供整個(gè)實(shí)驗(yàn)室過程的有線溫度計(jì)量,保*溫度傳感器的長期測(cè)量精度。

廣東瑞樂半導(dǎo)體致力于高精度溫測(cè)、溫控設(shè)備的生產(chǎn)和研發(fā)定制,為半導(dǎo)體設(shè)備提供可靠的國產(chǎn)解決方案。

產(chǎn)品特點(diǎn)TC Wafer

半導(dǎo)體制廠Fab,PVD/CVD部門、RTP部門等使用。

傳感器同時(shí)也可以定制。

高精度多通道數(shù)據(jù)采集儀。

優(yōu)良的軟件功能,便于數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)、趨勢(shì)繪圖和數(shù)據(jù)導(dǎo)出。

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產(chǎn)品優(yōu)*TC Wafer

高精度:因其直接嵌入在晶圓表面,同時(shí)也可以完成對(duì)晶圓溫度實(shí)時(shí)、精確監(jiān)測(cè)。

可靠性:傳感器材料比較穩(wěn)定,適用長期運(yùn)行,不容易受到外界干擾。

高靈敏度:微小的溫度變化也能被傳感器準(zhǔn)確地捕捉,確保制程的穩(wěn)定性。

即時(shí)性:傳感器實(shí)時(shí)性能使得生產(chǎn)線上的溫度調(diào)整可以快速響應(yīng),降低在生產(chǎn)過程中溫度變化。

Tc-wafer離子注入晶圓溫度測(cè)量系統(tǒng)熱電偶晶圓測(cè)溫系統(tǒng)

廣東瑞樂科技專注于高精度溫測(cè)、溫控設(shè)備的生產(chǎn)和研發(fā)定做,為半導(dǎo)體行業(yè)提供科學(xué)的國產(chǎn)解決方法,更多有關(guān)TC Wafer?晶圓測(cè)溫系統(tǒng)資訊請(qǐng)關(guān)注瑞樂官網(wǎng)。

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