晶圓快速退火爐,瑞樂晶圓快速退火爐,瑞樂晶圓快速退火爐RTP-150RL。廣東瑞樂半導(dǎo)體科技有限公司專注于晶圓快速退火爐,瑞樂晶圓快速退火爐,瑞樂晶圓快速退火爐RTP-150RL。歡迎垂詢!
一、簡介
1.1 概要
RTP-150RL是在保護(hù)氣氛下的桌面式快速退火系統(tǒng),以紅外可見光加熱單片 Wafer或樣品,工藝時間短,控溫精度高,適用最大6英寸晶片。相對于傳統(tǒng)擴(kuò)散爐退火系統(tǒng)和其他RTP系統(tǒng),其獨(dú)特的腔體設(shè)計、先進(jìn)的溫度控制技術(shù)和獨(dú)有的RL900軟件控制系統(tǒng),確保了極好的熱均勻性。
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1.2 產(chǎn)品特點(diǎn)
?紅外鹵素?zé)艄芗訜幔鋮s采用風(fēng)冷
?燈管功率PID控溫,可精準(zhǔn)控制溫度升溫,保證良好的重現(xiàn)性與溫度均勻性
?采用平行氣路進(jìn)氣方式,氣體的進(jìn)入口設(shè)置在Wafer表面,避免退火過程中冷點(diǎn)產(chǎn)生,保證產(chǎn)品良好的溫度均勻性
?大氣與真空處理方式均可選擇,進(jìn)氣前氣體凈化處理
?標(biāo)配兩組工藝氣體,最多可擴(kuò)展至6組工藝氣體
?可測單晶片樣品的最大尺寸為6英寸(150×150mm)
?采用爐門安全溫度開啟保護(hù)、溫控器開啟權(quán)限保護(hù)以及設(shè)備急停安全保護(hù)三重安全措施,全方位保障儀器使用安全
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1.3?RTP行業(yè)應(yīng)用
?氧化物、氮化物生長
?硅化物合金退火
?砷化鎵工藝
?歐姆接觸快速合金
?氧化回流
?其他快速熱處理工藝
? 離子注入激活
行業(yè)領(lǐng)域:
? 芯片制造 生物醫(yī)學(xué) 納米技術(shù)
? MEMS LEDs 太陽能電池
? 化合物產(chǎn)業(yè) :GaAs,GaN,GaP,
? GaInP,InP,SiC
? 光電產(chǎn)業(yè):平面光波導(dǎo),激光,VCSELs
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二、技術(shù)規(guī)格
2.1參數(shù)
RTP-RL150 | |
最大產(chǎn)品尺寸 | 6英寸晶圓或者最大支持150×150mm產(chǎn)品 |
溫度范圍 | 室溫~1250℃ |
最高升溫速度 | 150℃/s |
溫度均勻度 | ±1% |
溫控方式 | 快速PID溫控 |
降溫速度 | 200℃/min(1000~400℃) |
腔體設(shè)計 | 可配置大氣常壓腔體或者真空腔體 |
腔體冷卻方式 | 水冷腔體,獨(dú)立水冷源控制冷卻 |
襯底冷卻方式 | 氮?dú)獯祾?/span> |
工藝氣體 | MFC控制,常規(guī)兩路氣體,最大可擴(kuò)充至6路氣體 |